개요

산·학·연 협력활동 개요

MECARO-ALD Academy 2019 프로그램(내용소개)

주제 주요내용
ALD introduction
발표자 : 전형탁 교수
(한양대)

ALD 공정이 산업계나 학계에 소개된 후, 지금까지 많은 발전을 하였다. 특히 ALD공정은 자체적으로 장•단점이 분명하여
결함이 적은 박막을 증착할 수 있다는 장점이 있는반면, 증착속도가 너무 느리다는 단점 때문에 산업체에서 이 기술을
받아들이는 데 약간의 주저가 있었다. 그러나 지금은 산업계의 main stream 기술로 자리 잡게 되었다. 그래서 이 기술
에 대한 발전 경향과 간단한 기본 mechanism에 대해 소개하는 강의를 준비하였다.

ALD:
: introduction to
Practical Applications
to Nanoelectronics
발표자 : 김우희 교수
(한양대)

본 강연에서는 원자층증착법[Atomic Layer Deposition, ALD]에 대한 기초 및 응용 분야에 대하여 강연한다.
ALD는 기판의 표면 위에 발생하는 전구체와 반응기의 화학반응에 기초하여 고체 박막이 성장되는 박막증착기술이다.
따라서 ALD 공정에 적합한 전구체 물질에 대한 올바른 이해 및 기판과의 상호작용에 의한 표면 화학 반응에 대한 기본
적인 이해를 기반으로 ALD 성장특성에 대하여 이해한다. 또한 표면에 화학적으로 흡착된 전구체와 반응기와의 상호
작용에 기반하여 금속 혹은 산화물 박막이 표면에 생기는데, 이러한 반응기는 가스 혹은 플라즈마 상으로 공급된다.
따라서 본 강연에서는 다양한 ALD 금속/산화물 공정에 대한 표면화학적 반응 및 특성에 대한 기초적인 내용을 이해
하고, ALD 공정을 기반으로 파생되는 응용 공정에 대하여 강연한다.

basics of ALD Surface
Chemistry
발표자 : 송봉근 교수
(홍익대)

ALD의 전 과정은 고체 기판의 표면에서 발생하는 화학반응에 기반하여 일어난다. 따라서 ALD 공정의 깊이있는 이해를
위하여 고체의 표면구조 및 표면반응에 대한 이해가 선행되어야 한다. 이 강연에서는 표면화학의 기초적 내용 및 실제
ALD 조건하에서 일어나는 표면화학적 현상에 대한 해석을 다룬다.

ALD기반 메모리 응용
발표자 : 김성근 박사
(KIST)

연산을 위한 정보를 저장하는 역할을 수행하는 반도체 메모리는 정보량의 급격한 증가에 따라 저장용량의 꾸준한 증가를
요구하고 있다. 메모리 용량을 증가시키기 위해서는 소자의 크기를 최대한 작게 만들거나 적층하는 형태로 이루어지고
있다. 이러한 두가지 방향을 가능하게 하는박막증착기술로 대표적인 것은 원자층 증착법이다. 본 강연에서는 원자층
증착법의 메모리 응용에 대한 기초부터 현재의 연구동향에 이르기까지 고찰하고자 한다.