프로그램안내

산·학·연 협력활동 프로그램안내

제4회 반도체·디스플레이 공정진단제어 기술연구회 온라인 워크숍 프로그램
 *주제: 공정 진단-제어 기술 발전 생태계 활성화 전략 및 공정진단센서/공정진단/장비 제어 기술 현황
 *일시: 2021년 8월 26일(목)
 *주최: 한국반도체디스플레이기술학회(반도체디스플레이 공정진단제어 기술연구회),서울대학교 플라즈마 응용연구실
 *방식: ZOOM 온라인 세미나

시간 주제 연사
08:30~08:55 준비 -
08:55~09:00 연구회 회장 인사말 김곤호 교수
(연구회 회장)
09:00~09:30 반도체산학협력모델과 공정진단제어의 역할 김무진 수석연구원
(한국산업기술평가관리원)
09:30~10:00 최신 공정 및 장비 개발 이슈 조망 김용진 박사
(SK하이닉스)
10:00~10:30 PI-VM 알고리즘 기반의 OLED 식각 공정 개발 및 양산 제어 박설혜 박사
(삼성디스플레이)
10:30~11:00 토의시간 (김곤호 교수) -
11:00~11:30 In-Situ 반도체 설비 진단 기술의 현재와 미래 장성호 박사
(삼성전자)
11:30~12:00 반도체 장비사의 공정진단과 장비 제어기술을 위한 시스템 개발 방향 이내일 박사
(도쿄일렉트론)
12:00~12:30 플라즈마 장비 공정진단 기술 현황과 전망 강우석 책임연구원
(한국기계연구원)
12:30~14:00 점심 -
14:00~14:30 플라즈마 공정 모니터링을 통한 박막특성 예측 및 아킹진단 채희엽 교수
(성균관대)
14:30~15:00 반도체공정에서 가상 계측 기술 활용과
플라즈마 시뮬레이션
송상헌 수석
(SK하이닉스)
15:00~15:30 토의시간(김곤호 교수) -
15:30~16:00 반도체 양산에서 공정진단/제어 기술 박종철 마스터
(삼성전자)
16:00~16:30 고분해능 OES/OAS센서를 이용한 차세대
반도체 공정장비 실시간 모니터링 응용
박근오 부사장
(코리아스펙트랄프로덕츠)
16:30~17:00 실시간 PI-VM 데이터 기반의 식각 공정 능동제어 시스템 개발 김곤호 교수
(서울대)
17:00~17:30 마무리(차기연도 주제 논의) -

*진행 : 발표 20분, 토의(질의응답) : 10분
* 상기 프로그램은 사정에 따라 다소 변경될 수 있습니다.