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2017³â Ãß°èÇмú´ëȸ ¾È³»(¹Ýµð±â¼úÇÐȸ)(ÀÛ¼ºÀÏ:2017-11-01)

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38 Á¦8ȸ ¹ÝµðÁ¦ÁÖÆ÷·³(5/11~12) °³ÃÖ ¾È³»(ÀÛ¼ºÀÏ:2018-04-25) °ü¸®ÀÚ 20.05.14 7,461
37 ¹ÝµµÃ¼ ÀüÀÚÀç·á ÄÁÆÛ·±½º(SMC Korea 2018) °³ÃÖ ¾È³»(ÀÛ¼ºÀÏ:2018-04-25) °ü¸®ÀÚ 20.05.14 12,946
36 International Conference on Microelectronics and Plasma Technology (ICMAP 2018) Çà»ç °³ÃÖ(7¿ù 25ÀÏ~28ÀÏ) ¹× ÃÊ·Ï Á¢¼ö ¾È³»(ÀÛ¼ºÀÏ:2018-04-09) °ü¸®ÀÚ 20.05.14 15,877
35 Á¦8ȸ ¹ÝµµÃ¼.µð½ºÇ÷¹ÀÌ Á¦ÁÖ Æ÷·³ °³ÃÖ ¾È³»(ÀÛ¼ºÀÏ:2018-04-02) °ü¸®ÀÚ 20.05.14 10,008
34 Çѱ¹ ALD workshop -14 ¾È³»(2Â÷)(ÀÛ¼ºÀÏ:2018-04-02) °ü¸®ÀÚ 20.05.14 11,614
33 2018³â Ãá°èÇмú´ëȸ ¾È³»(¹Ýµð±â¼úÇÐȸ)(ÀÛ¼ºÀÏ:2018-03-09) °ü¸®ÀÚ 20.05.14 4,711
32 Çѱ¹ ALD workshop -14 ¾È³»(ÀÛ¼ºÀÏ:2018-03-07) °ü¸®ÀÚ 20.05.14 5,178
31 ¡°±Û·Î¹ú ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀ硤ºÎǰ ¹× Àåºñ»ê¾÷ À°¼º¡±À» À§ÇÑ »ê¾÷°è(»ê¡¤ÇС¤¿¬) ÀÇ°ß ¼ö·Å ¼³¸íȸ(2¿ù22ÀÏ (¸ñ)) ¼³¹®Á¶»ç ¾ç½Ä ÷ºÎ(ÀÛ¼ºÀÏ:2018-02-20) °ü¸®ÀÚ 20.05.14 4,734
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