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산·학·연 협력활동 인사말

제8회 반도체·디스플레이 공정진단 제어기술 교류회에 초대합니다.

초미세화 공정 기술의 비약적 진보와 함께, 극저온(Cryogenic) 기술이 본격적으로 반도체 제조 공정에 도입되면서,

우리는 이제 섭씨 영하의 온도를 공정 제어의 새로운 변수로 다루는 시대에 진입하고 있습니다. 이는 단순한

기술의 확장이 아닌,나노 스케일 표면 반응 특성을 온도에 따라 정밀하게 제어해야 하는 새로운 패러다임의

도래라 할 수 있습니다. 실제로 ALE(Atomic Layer Etching) 및 ALD(Atomic Layer Deposition)와 같은

원자 단위 공정에서는, 표면 온도에 따른 입자의 흡착 및 반응 메커니즘 변화가 공정 성능을 좌우하는 요소로

대두되어 왔으며, 이는 곧 극저온 공정, 펄싱플라즈마 등 새로운 장비 기술의 발전 가능성을 예고해 왔습니다.

이제 이러한 기술을 구현할 수 있는 장비들이 실제양산 라인에 적용되기 시작하면서, 공정 진단 및 제어 기술의

중요성은 그 어느 때보다도 부각되고 있습니다. 초미세공정의 정밀도와 신뢰성을 확보하기 위해서는

공정(Process), 설비(Equipment), 그리고 기반 기술(Foundational Technologies) 간의유기적이고 정교한

조화가 필수적입니다.

이를 실현하기 위해서는 공정 진단과 제어 기술을 가능케 하는 데이터의 체계적인 생성, 정보 흐름의 이해.

그리고 각 데이터에 내재된 의미를 해석하고 활용할 수 있는 능력이 요구됩니다.

그러나 이러한 기술적 요구는 단일 분야의 전문성만으로는 결코 충족될 수 없습니다. 데이터 생성을 위한 도메인

지식, 진단 센서와 플라즈마-공정연계 기술, 반복 주기를 기반으로 한 제어 알고리즘, Cryo 및 펄스 제어 기술 등

다양한 영역의 전문 역량이 유기적으로 통합되어야만 진정한나노 스케일 공정 구현이 가능해집니다. 특히 반복적

사이클 기반 공정에서는 공정 동작과 물리 모델 간 상호작용에서 도출된 정보를 바탕으로 한 통합 제어가 핵심이

되며, 이는 고도의 다학제적 접근이 필수적인 영역입니다.


한편 반도체 및 디스플레이 산업의 고도화는 공정에서 생성되는 데이터의 양과 복잡성을 기하급수적으로 증가

시키고 있으며, 이는 오히려 양질의데이터를 식별하고 해석하는 데 새로운 어려움을 만들어내고 있습니다.

이제 공정진단 제어 기술은 단순한 측정이나 데이터 처리의 수준을 넘어서,데이터 생성 단계부터 정보로

전환하는 기술 생태계로 확장되어야 하며, 이를 가능케 할 수 있는 기술 협업 체계의 구축은 더 이상 선택이

아닌 필수입니다.이에 반디 공정진단 제어 기술연구회는 지난 십수 년간 이러한 기술 생태계 조성과 공정 데이터

기반 제어 기술 개발의 길을 모색하며, 지식 교류와 협력의 장을 꾸준히 이어 왔습니다.


올해에도 『나노 스케일 공정 진단 제어 기술』을 주제로, 장비사, 소자사, 학계의 열한 분 전문가를 모시고,

최신 센서 기술, 설비 기술, 공정 운영 기술 등진단 제어 분야의 핵심 주제를 공유하고자 합니다. 나노 스케일

공정 데이터를 어떻게 생성하고, 해석하며, 이를 위한 기술 간 협업이 어떻게 이루어져야 하는지를 함께

논의하는 자리가 되기를 기대합니다. 오늘날의 공정 기술은 단위 기술 간 융합과 상호작용 속에서 진정한

해답을 찾아가고 있습니다. 이번 워크숍이 다양한 분야의 전문가들이 한자리에 모여 서로의 기술을 소개하고

이해하며, 실질적인 협력과 응용 방안을 모색하는 소중한 만남의 장이 되기를 진심으로 바랍니다.

깊은 관심과 성원을 부탁드리며, 귀하의 적극적인 참여를 정중히 초대드립니다. 감사합니다.



반도체디스플레이 공정진단제어 기술연구회

회 장 김 곤 호