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제5회 반도체·디스플레이 공정진단제어 기술연구회 워크숍 프로그램
 
 *일시: 2022년 10월 6일(목)
 *장소:  서울대학교 공과대학 39동 BK다목적회의실(B103호)
 *주최: 한국반도체디스플레이기술학회(반도체디스플레이 공정진단제어 기술연구회), 한국핵융합에너지연구원 플라즈마장비지능화연구단

시간 주제 연사
08:30~ 등록 -
08:55~09:00 연구회 회장 인사말 김곤호 교수
(연구회 회장)
09:00~09:40 PI-VM 모델 기반의 실시간 식각률 능동제어 기술 소개 유상원 박사
(SK하이닉스)
09:40~10:20 네트워크기반 OES를 이용한 공정 진단 파라미터 모니터링 이창석 대표이사
(코리아스펙트랄프로덕츠)
10:20~11:00 반도체 초미세 공정 패터닝 현황과 미래 배근희 마스터
(삼성전자 반도체연구소)
11:00~11:10 Break -
11:10~11:50 플라즈마장비지능화연구단 주요 개발기술 소개 윤정식 단장
(한국핵융합에너지연구원)
11:50~12:30

Plasma Enhanced Process Technologies for

the Semiconductor Devices

 오성태 박사
(도쿄일렉트론코리아)
12:30~14:00 점심 락구정 한정식
14:00~14:40 플라즈마 장비/공정 해석 기술 개발

권득철 책임연구원

(한국핵융합에너지연구원)
14:40~15:20

HARC etch 공정에서 Deep Learning과 TCAD접목을 통한

Chip-level Hot Spot Detection

 권형철 TL
(SK하이닉스)
15:20~15:40 Break  -
15:40~16:20

Application of OES to the Real-Time Monitoring of

Semiconductor Plasma Processes  

허 민 박사

(한국기계연구원)
16:20~17:00 AI 데이터 기반 나노팹 공정 스마트 서비스 사업 

양준모 책임연구원

(나노종합기술원)
17:00~17:40

Improvement of AI Performance for OLED Mass

Production Using PI-VM Parameters

 박설혜 박사
(삼성디스플레이)
17:40~17:50 마무리 김곤호 교수
(연구회 회장)



*진행 : 발표 30분, 토의(질의응답) : 10분
*상기 프로그램은 사정에 따라 다소 변경될 수 있습니다.

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