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산·학·연 협력활동 프로그램안내

2024년 제4회 플라즈마 RF 기술연구회 워크숍

*일시 : 2024년 10월 30일(수) 13:00 ~ 18:00 (등록: 12:30분~)
*장소 : 과학기술컨벤션센터 대회의실1(B1F)(서울 강남구)
*주최 : 한국반도체디스플레이기술학회(플라즈마 RF 기술연구회)

시 간 주 제 연 사
12:30~행사 등록-
13:00~13:10연구회 회장 인사말 정진욱 교수
(연구회 회장)
13:10~13:40 High Aspect Ratio Contact Etch 설비의 문제점과 향후 필요 기술

조성일 마스터

(삼성전자)



13:40~14:10Etch Plasma Technology 변화와 시뮬레이션 활용

송상헌 수석연구원

(SK하이닉스)

14:10~14:40

RF Breakdown 및 Insulation 기술 적용 및 응용-Paschen’s Law 응용

우현종 팀장

(원익IPS)

14:40~14:50Break

-


14:50~15:20The path to 1,000-layer 3D NAND with Cryo 3.0 technology이동수 상무(램리서치코리아)
15:20~15:50Reflecting on the historical milestones of semiconductor equipment and predicting-

전상진 전무

(테스)





15:50~16:20극저온 식각 기술 원리와 응용

정진욱 교수

(한양대)

16:20~16:30Break
-





16:30~17:00

Toward Accurate Topography Simulation in Next-Generation-

임연호 교수

(전북대)

17:00~17:30플라즈마 하이브리드 웨이퍼 본딩

유신재 교수

(충남대)


17:30~18:00

플라즈마 진단/제어 기술 현황

장성호 PL

(삼성전자)















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