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제1회 플라즈마 RF 기술연구회 워크숍
 
 *일시 : 2023년 2월 23일(목) 12:30 ~ 18:00
 *장소 :  한양대학교 HIT관 612호 대회의실
 *주최 : 한국반도체디스플레이기술학회(플라즈마 RF 기술연구회)

시간 주제 연사
12:30~ 행사 등록 -
13:20~13:30 소개 및 연구회 회장 인사말 정진욱 교수
(연구회 회장)
13:30~14:00 최신 Plasma etch 장비의 양산성을 위한 요건 박종철 마스터
(삼성전자)
14:00~14:30 Memory 스케일 및 스텝업 위한 플라즈마 & RF 기술 전병건 TL
(SK하이닉스)
14:30~14:45 식각 장비를 위한 Plasma 및 관련 기술 정승필 상무
(세메스)
14:45~15:00 Challenges and Opportunities for Plasma Deposition Equipments Technology 신형주 상무
(원익IPS)
15:00~15:15 Break -
15:15~15:30 TBD 이명범 부사장
(램리서치코리아)
15:30~15:45 Plasma Enhanced Technologies for the Future Generations 박영우 부사장
(도쿄일렉트론)
15:45~16:00 Ion beam 식각 플라즈마 기술 이길용 전무
(AMAT Korea)
16:00~16:15 최신 플라즈마 공정을 위한 RF & Matcher 기술 정재철 전무
(MKS)
16:15~16:30 Break -
16:30~16:50 극저온 전자 온도 플라즈마 소스 정진욱 교수
(한양대)
16:50~17:10 RF/Microwave를 활용한 플라즈마실시간 정밀진단 유신재 교수
(충남대)
17:10~17:30 Plasma Atomic Layer Etching for Dielectric and Metals 채희엽 교수
(성균관대)
17:30~18:00 패널 디스커션(기술 및 인력 양성 협력 방안) 및 단체 사진 모든 연사

*상기 프로그램은 사정상 다소 변경될 수 있습니다.

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